光学加工---超光滑表面

在现代光学中，超光滑表面的应用越来越广泛。我们通常机械加工的表面粗糙度在10³nm以上，超精细机械加工表面粗糙度在10²-10³nm之间，而光学元件表面粗糙度≥10nmR

阅读(14) 评论(0) 2012-05-15 16:04

 光学微细加工----光刻中常见问题

在光学微细加工中，最常见的质量问题包括：脱胶、小岛、针孔三种，今天我们就将这三种问题做些简单的分析： 一、 脱胶：在显影或腐蚀的时候，基片表面光刻胶出现起皱或脱落，这种现象也叫溶胶，出现脱胶的主要原因

阅读(8) 评论(0) 2012-05-14 16:00

 光学微细加工----掩模板制造

在光学微细加工中，掩模板的制造是个关键，它的线条和图形质量将决定光刻复制的质量，随着特征尺寸的减小，掩模板制造成本在整个光刻成本中所占比例也日益增高。 掩模板的基片通常采用石英玻璃，对表面粗糙度和平面

阅读(19) 评论(0) 2012-05-11 15:23

 光学微细加工----光刻胶

光刻胶是光学微细加工中使用的关键辅料，是光致抗蚀剂的俗称。其有效成分是光敏聚合物，在基础聚会上添加抗刻蚀物资、光敏物资和保护物资。特性是对特定波长的光学具有灵敏性，能够发生光生化学反应，而对其他波长的

阅读(13) 评论(0) 2012-05-09 16:51

 光学微细加工---曝光工艺

光学微细加工里的曝光工艺，可分为接触式曝光、接近式曝光和投影成像曝光。特征尺寸较大的一般采用接触式或接近式曝光，而特征尺寸较小的一般采用投影成像曝光。 1、接触式曝光：将掩模板直接与涂有光刻胶的基片接

阅读(16) 评论(0) 2012-05-05 15:12

 光学微细加工----光刻工艺

光学微细加工技术从工艺程序上分为曝光技术和刻蚀技术，在涂有感光抗蚀剂的基片表面，通过光学曝光，将图形复印、腐蚀，制造出一定的图形结构，工艺流程：基片镀膜—涂胶—曝光—显影—腐蚀—去胶。下面我们分别介绍

阅读(23) 评论(0) 2012-05-03 16:36

 光学微细加工（一）---发展现状及趋势

所谓光学微细加工是指以光学手段进行的以微米和亚微米为加工尺寸的精细加工。传统的光学微细加工，主要指对分划板、度盘、直尺、光栅等光学元件的刻划加工。随着现代光学技术的发展，信号处理、数字技术、计算技术的

阅读(22) 评论(0) 2012-05-02 16:14

 光学加工中的镀膜工艺（十三）

在光学加工过程中，任何一道工序都离不开检测，镀膜工艺同样如此。薄膜的性能检测主要包含光谱特性测量、膜厚测量、膜层牢固度测量。 薄膜的光谱特性测量是指镀膜光学元件透过率和反射率的测量。在紫外和可见区域最

阅读(22) 评论(0) 2012-04-27 16:51

 光学加工中的镀膜工艺（十二）

前面我们着重介绍了光学加工中镀膜工艺的相关问题，今天我们讨论薄膜制造中的监控技术。 薄膜的光学性能与介质材料的折射率、膜层厚度密切相关，是两个最重要的控制参数。现有技术无法直接监控镀膜过程中的薄膜折射

阅读(27) 评论(0) 2012-04-26 16:34

 光学加工中的镀膜工艺（十一）

前面几片博文简单介绍了光学镀膜中的溅射镀膜工艺，在这种工艺中，分为辉光放电溅射、磁控溅射、离子束溅射，以下我们就逐一做个介绍： 一、 辉光放电溅射：利用电极间的辉光放电进行溅射。辉光放电是靠离子轰击阴

阅读(30) 评论(0) 2012-04-25 16:06

共有111篇文章，浏览更多 >>